酸性蝕(shí)刻液用途和堿性蝕刻液有(yǒu)何不同(tóng)
蝕刻液是通過(guò)侵蝕材料的特性(xìng)來進行雕刻的(de)一種液體。業界采用的蝕刻液,主要分為酸性蝕刻液與堿性蝕刻液兩種。酸性蝕刻(kè)液主要成分氯化銅(tóng)、鹽酸、氯化鈉和氯化(huà)銨。堿(jiǎn)性蝕刻液主要成分為氯化銅﹑氨水﹑氯化銨,補助成分為氯化鈷、氯化鈉、氯化銨或其它含硫化合物以改善特性。

其中,酸性蝕刻液和堿性蝕刻液的蝕刻機理、影(yǐng)響蝕刻速率的因素、特(tè)性不一樣(yàng)都不一樣。
酸性蝕刻液機理是:
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堿(jiǎn)性蝕刻液機(jī)理是:
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酸性蝕(shí)刻液的蝕刻速率(lǜ)易控製,蝕刻液(yè)在穩定狀態下能達到高的蝕刻質量;溶銅量大;蝕刻液容易再生與回收,從而減少汙染(rǎn);而堿性蝕刻液的蝕刻速率快(可達70μm/min以上),側蝕小(xiǎo);溶銅(tóng)能力高,蝕刻容易控製;蝕刻液能(néng)連(lián)續再(zài)生循環使用,成本低(dī)。
由以上特性(xìng)決定,酸性蝕刻液用途(tú)可用於多層印(yìn)製板的內層電(diàn)路圖形的製作或微波(bō)印製板陰板法直接蝕刻(kè)圖形的製作;而堿(jiǎn)性(xìng)蝕刻液一般適用於多層印製板的外層電路圖(tú)形的製作及(jí)純錫印製板的蝕刻。而總的來說,堿性與酸性蝕刻液用途要權衡對抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生(shēng)及(jí)銅的回收、環(huán)境保護及經濟效果等各方麵的影(yǐng)響因素選擇合(hé)適的(de)試(shì)劑。
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